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    2023-7-17

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化学镀溶液的组成及其相应的工作条件

化学镀溶液的组成及其相应的工作条件必须是反应只在具有催化作用的制件表面上进行,而溶液本身不应自发地发生还原氧化作用,以免溶液自然分解,造成溶液很快失效。如果被镀的金属(如镍、钯)本身是反应的催化剂,则化学镀的过程就具有自动催化作用,使上述反应不断地进行,这时,镀层厚度也逐渐增加,获得一定的厚度。除镍外,锰系磷化价格,钴、铑、钯等都具有自动催化作用。

对于不具有自动催化表面的制件,如塑料、玻璃、陶瓷等非金属,通常需经过特殊的预处理,使其表面活化而具有催化作用,才能进行化学镀。



化学镀在纳米材料制备中已展示其特殊的应用价值

ni-p化学镀层除了耐磨和抗蚀性之外,还因具有电阻特性、磁性、非磁性、可焊性、耐热性等,因此在电子工业、磁性记录材料制备、---规模集成电路技术和微机电系统制造等方---有广泛的应用。随着纳米技术的发展,化学镀在纳米材料制备中已展示其特殊的应用价值,如在制备碳纳米管催化剂和以“模板合成法”生产纳米棒或纳米线等方面显示的优势。

通常化学镀施镀温度较高,锰系磷化工艺,降低镀液温度不仅可以提高镀液稳定性、降低生产成本,而且可以减少镀液挥发量,从而起到节约能源和保护环境的双重功效。设计中温或低温化学镀过程,---有前景的方案是选择合适的络合剂与添加剂。添加剂用量少,锰系磷化厂家,对沉积速度和镀层性能影响---,但是目前对添加剂作用机理的研究尚不够深入。同时,由于活化步骤关系到化学镀发生与否、沉积速度快慢、镀层---坏等问题,探索活化过程的机理、发展新的活化方法等也成为化学镀技术---的关键。



近年来,随着半导体输入端子数量的增加,基板向侧面端子的多腿化及信号线间距微细化的发展。多腿化的趋势使qfp(quad flat package)构造盘间的节距狭小化制造的难度增加,---是面阵列端子(面端子)化的需要,天津锰系磷化,bga(ball grid array)构造的---型化封装的开发。---型化封装端子的表面处理的外部引出线需要增加适合的化学镀金/化学镀镍。化学镀金或电镀金的工艺方法比较而言,对于独立的电路图形上表面处理是适用的,镀层的厚度可以根据需要增加,这一点是非常有利的。



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